2018年9月尾
，由沈阳fh至尊登录科技有限公司自主研制的12英寸原子层沉积（Atomic Layer Deposition
，ALD）装备通过了客户的验收。

        ALD装备是集成电路制备历程中要害的薄膜沉积装备
，被视为先进半导体工艺手艺生长的要害环节之一。fh至尊登录公司基于已通过生产验证的高产能PECVD装备平台
，乐成研制了海内首台量产型12英寸ALD装备
，并迅速推向市场
，可应用于28nm以上极大规模集成电路
，OLED及先进封装（TSV）领域
，投入先进生产线
，用于沉积SiO2
，SiNx等绝缘薄膜。该装备已乐成进入试生产线审核验证
，历时3个多月
，通过了客户的审核验收
，装备各项性能指标均知足要求
，且抵达或凌驾了国际同类产品的先进水平
，这是我国在实现半导体装备国产化历程中的又一重大突破。